Итоговый отчет московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана (наименование вуза) по результатам реализации
| Вид материала | Отчет |
- Отчет государственного образовательного учреждения высшего профессионального образования, 2810.92kb.
- Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана, 476.84kb.
- Министерство образования Российской Федерации Московский государственный технический, 1455.22kb.
- Москва, 9-11 сентября 2009 г. Московский государственный технический университет им., 94.15kb.
- Осрб 1-36 04 02-2008, 702.53kb.
- Исследование процессов тепло- и массопереноса на поверхности спеченных электродов, 188.74kb.
- Итоговый отчет государственного образовательного учреждения высшего профессионального, 3956.19kb.
- Обучение межкультурной коммуникации в условиях глобализации, 60.67kb.
- Структура элементов маркетингового обеспечения и их факторное построение, 404.86kb.
- Экспресс-диагностики параметров ионного пучка, 18.27kb.
4. Ионно-плазменная установка для нанесения наноструктурных покрытий.
Назначение. Ионно-плазменная установка для нанесения наноструктурных покрытий Platit π-80, фирма Platit (Швейцария) предназначена для нанесения наноструктурных покрытий различного класса для различных деталей и узлов микросистемной техники: однослойные, многослойные, наноградиентные, нанослойные, нанокомпозитные, комбинации этих покрытий (TiN, TiAIN, AITiN, nACRo, TiCN-MP, TiAICN). К области рационального использования следует отнести: барьерные (антидиффузионные) покрытия на детали микроэлектромеханических систем и приборов микросистемной техники, упрочняющие покрытия на детали приборов, антикоррозионные покрытия, биосовместимые покрытия, алмазоподобные бактерицидные покрытия.
Принцип действия и состав прибора. В основу принципа действия установки заложен метод электро-дугового нанесения покрытий, базирующийся на технологии PLATIT LARC (боковые вращающиеся катоды). В качестве источников плазмы используются цилинрические полые вращающиеся катоды с использованием замкнутого магнитного поля для управления дугой.
Установка состоит из следующих модулей: вакуумной камеры с боковыми электро-дуговыми источниками плазмы, система вакуумирования, система управления, система загрузки и разгрузки образцов.
Основные технические параметры:
- Внутренние размеры камеры: Ш400хГ380хВ520мм;
- Эффективный объем плазмы: А300*В400 мм ;
- Размер LARC катода: D96х 510 мм;
- Замкнутое магнитное поле (MAC) для управления дугой;
- Время смены катода квалифицированным оператором прибл. 15 мин/катод;
- Система «Виртуального Затвора» без механических элементов, которая позволяет производить очистку катодов путем разворота их в стороны дверцы камеры;
- Очистка ионизированной плазмой, тлеющим разрядом в среде газа (Аг), ионная бомбардировка;
- Ручное и автоматическое управление процессом (параметры процесса отображаются в реальном времени и сохраняются в базе данных).
5. Малогабаритная установка нанесения защитно-декоративных покрытий.
Назначение. Малогабаритная установка нанесения защитно-декоративных покрытий «Луч 013» (Россия) предназначена для получения зеркальных покрытий на стеклянных подложках, а также для изготовления полупропускающих элементов (таких, как полупрозрачные пластины, призмы и т.д.), а также для получения слоя первичной металлизации на голограммах с поверхностным рельефом для дальнейшего наращивания никеля гальваническим способом.
Принцип действия и состав прибора. В основу принципа действия установки заложен метод магнетронного распыления материала покрытия в вакууме реализуется возможность осуществлять распыление металла в среде инертного газа для изготовления керамических (нитриды, карбиды) покрытий на подложках из стекла, керамики, пластмассы, металла, а также получение многослойных покрытий с контролируемыми параметрами при использовании двух распыляемых металлов в одном цикле загрузки установки.
Структурно установка представляет собой комплект оборудования, обеспечивающего: ручную загрузку изделий в вакуумную камеру, откачку камеры, напуск газа, очистку в тлеющем разряде, магнетронное нанесение покрытий на изделия, вращение изделий относительно вертикальной оси камеры и ручную разгрузку изделий.
Основной модуль установки-вакуумная камера представляет собой сварную конструкцию цилиндрической формы, выполненную из листовой стали. Конструкция верхнего шлюза предусматривает возможность установки магнетрона и смотрового окна. На боковой поверхности камеры предусмотрены фланцы для установки 2-х магнетронов, патрубок для подачи газовой смеси, а также расположен патрубок, соединяющий камеру с вакуумной системой. Магнетрон состоит из водоохлаждаемого основания, в котором размещены магниты из Co-Sm (или Nd-Fe-B). Мишень представляет собой диск толщиной 5-10 мм и диаметром 115 мм.
6. Модернизированный растровый электронный микроскоп.
Назначение. Комплект оборудования для модернизации растрового электронного микроскопа CamScan4 обеспечивает переход от аналоговой системы обработки информации, получаемой на микроскопе, к цифровой системе.
Это позволит достичь следующих технических характеристик:
- разрешение - 3 нм при ускоряющем напряжении в колонне 30 кВ;
- увеличение - от х4 до х 1 000 000;
- ускоряющее напряжение - от 200 В до 30 кВ;
- ток электронного луча - от 1 пА до 2 мкА;
- рабочее значение вакуума - 5x10-3 Па;
- время откачки после замены образца - 3 минуты;
- подвеска камеры образцов и колонны – пневматическая;
- управление микроскопом: функции микроскопа управляются мышкой и трекболом из программы “VEGA TC” под операционной системой Windows XP;
- программа управления имеет набор автоматических функций настройки и управления микроскопом. Имеются программные модули: обработка изображений, подсчет площади объектов, геометрические измерения на изображении, архивирование изображений;
- дистанционное управление - через TCP/IP;
- размер изображения - до 4096 x 4096 точек;
- формат изображения – квадратный или прямоугольный 3:4 или 1:2.
Модернизация заключалась в ведении в структуру системы следующих модулей:
- растровый электронный микроскоп VEGA\\LMH;
-источник бесперебойного питания APC Smart-UPS мощностью 3 кВА;
- энергодисперсионный детектор «INCA350» Oxford Instruments.