Н. Э. Баумана Москва | 2007 Производственные наукоемкие технологии Ответы на экзаменационные билеты

Вид материалаЭкзаменационные билеты

Содержание


Процесс фотолитографии происходит так
LIGA- технология (от англ., литография, гальваника, прессование)
Монтаж кремниевых компонентов методом сплавления.
Типы механических датчиков
Пьезорезистивные датчики
Механические датчики
Тепловые датчики
LIGA- технология (от англ., литография, гальваника, прессование)
Механические преобразователи
Пьезорезистивные датчики
Основные этапы технологического процесса изготовления полупроводниковых подложек
Пьезоэлектрические приводы
Преобразователи (датчики) излучений
Метод трафаретной печати (сеткографический способ)
Схема установки для осаждения тонких пленок из SIO
Датчики излучения
Вопрос 1 Вопрос 2
Монтаж кремниевых компонентов методом сплавления.
Методы упаковки (корпусироавния) МЭМС устройств
Подобный материал:
  1   2   3   4   5   6   7   8   9   10

Московский Государственный Технический Университет им. Н.Э. Баумана


Москва | 2007



Производственные наукоемкие технологии

Ответы на экзаменационные билеты






27 декабря 2007г.

Автор курса лекций: Холевин Владимир Викторович (каф. ИУ-4)

Авторы ответов: Авдонин Д.П., Белов В.В.

Большое спасибо создателям редакции 2006 года (была очень полезна при составлении нынешней):
  • Рудаков В.А.
  • Кузнецов И.А. (ИБМ 6-2004)
  • Тишкин В.В. (ИБМ 6-2004)
  • Коренская Л.С. (ИБМ 6-2004)
  • Коренская М.С. (ИБМ 6-2004)
  • Кузнецов И.А. (ИБМ 6-2004)
  • Калинин Д.А. (ИБМ 6-2004)
  • Жалыбина Т.В. (ИБМ 6-2004)
  • Гриценко Д.А. (ИБМ 6-2004)




Внимание! Данное пособие создавалось на добровольных началах, без цели получения какой-либо материальной выгоды. Материал предназначен для облегчения подготовки к сдаче экзамена по дисциплине «Производство наукоёмких технологий». За ущерб, полученный вследствие использования данного материала (прямой или косвенный), создатели ответственности не несут. Все права принадлежат автору текста. Использование данного пособия в коммерческих целях преследуется по закону.





Билет 24
  1. МСТ как одна из наиболее перспективных технологий 21 века
  2. Термовакуумное напыление

1 вопрос


Современный этап развития техники характеризуется ростом интереса к микросистемной технике (МСТ) и нанотехнологиям. Развитие микросистемной техники исторически основывалось на достижениях в области микроэлектроники, первой вехой принято считать лекцию известного американского физика Фейнмана «Внизу еще очень много места». Параллельно с микроэлектроникой на базе разработок методов интегральной технологии получила развитие микросистемная техника (технология). В дальнейшем МСТ явилась базисом для очень многих приложений нанотехнологий.

Микросистемная техника получила активное развитие с начала 80-х годов прошлого века. С тех самых пор масштабы и развитие МЭМС серьезно возросли. Микросистемная техника занимается производством микросистем, значимость которых в настоящее время возрастает. Это происходит в связи с научно-техническим прогрессом, расширением наукоемкого производства, а также в связи с тенденцией к уменьшению размеров устройств. Наукоемкое производство постоянно увеличивает свои масштабы, совершенствуются методы изготовления различных систем и устройств. В связи с этим микросистемная техника имеет большие перспективы, особенно, если учесть тот факт, что МСТ появилась совсем недавно (Первая международная конференция по МЭМС прошла в 1988г.), и только начинает свое развитие.

2 вопрос


Металлизация – это процесс нанесения металлического слоя на поверхность подложки. Такие металлические пленки используются для создания электродов, внутренних соединений, контактов и т.д.

Основным способом нанесения тонких пленок толщиной 0,2- мкм является вакуумная металлизация, которая может быть выполнена методом термического вакуумного напыления и методом ионного распыления. Рассмотрим первый метод.

  1. Колпак (стекло или нержавейка)
  2. Водяная рубашка
  3. Лодочка с напыляемым материалом
  4. Спираль
  5. Держатель подложек
  6. Подложки
  7. Подогрев
  8. Пар
  9. Кочерга (ой, т.е. заслонка)
  10. Иллюминатор
  11. Уплотнитель
Т ермическое вакуумное напыление происходит на вакуумных установках.


После подготовки подколпачного устройства устанавливают колпак и с помощью форвакуумного, а потом диффузионного насоса из камеры откачивают газы, до давления 10-6 10-8 мм. р. ст.

Для ускорения дегазации внутри все нагревают с помощью горячей воды.

В начале процесса заслонка перекрывает пролетное пространство, затем включают нагреватель 4 и материал в лодочке испаряется, при достижении требуемой температуры пара заслонка открывается, и пар осаждается на поверхность подложки и другие части установки.

Контроль толщины обычно осуществляется путем измерения сопротивления.

Заслонка 9 перекрывает поток пара, потом пропускают холодную воду для охлаждения. После охлаждения открывают кран, и под колпак поступает воздух.

В процессе напыления подложки нагреваются для температуры 150-200 °С, с целью снижения остаточных напряжений в пленке и градиента напряжений на границе пленки- подложки.

Большинство напыляемых пленок имеют сильно неупорядоченную структуру. И много остаточных напряжений. Поэтому напыляют только тонкие слои металлов. Процесс напыления идет медленно – 5 нм в секунду.

Недостаток метода – сложность получения пленок с неоднородным стехиометрическим составом. В таком случае в качестве источника нагрева используют остросфокусированное лазерное или электронное излучение, чтобы испарение происходило взрывообразно в локальных микрообъемах.


Билет 23
  1. Общие сведения о МЭМС (история развития, современные и будущие области применения, состояние рынка и проблемы миниатюризации)
  2. Процессы фотолитографии в технологии электронной аппаратуры и МСТ