В. И. Стражев 200 г. Регистрационный № физические основы электроники учебная программа
Вид материала | Программа |
- Рабочая учебная программа дисциплины Физические основы электронной техники Направление, 612.9kb.
- Рабочая программа по дисциплине основы компьютерной электроники для студентов специальности, 487.92kb.
- Учебная программа по дисциплине электротехника и электроника лахтина, 44.8kb.
- Учебная программа для специальности: 1-24 01 02 Правоведение 1-24 01 01 Международное, 254.64kb.
- Учебная программа для специальности: 1-26 01 71 Правоведение Факультет социального, 637.37kb.
- Учебная программа для специальностей: 1-26 02 02 Менеджмент 1-26 02 03 Маркетинг, 459.13kb.
- Учебная программа для специальностей: 1-24 01 01 Международное право Факультет Юридический, 205.46kb.
- И. о декана факультета ксис л. П. Князева Регистрационный № уд- /р. Этика рабочая учебная, 124.68kb.
- Физические основы электроники, 499.24kb.
- Новая интерпритация периодического закона д. И. Менделеева, 159.47kb.
Белорусский государственный университет
УТВЕРЖДАЮ
Ректор Белгосуниверситета
________________ В.И. Стражев
«____» ___________ 200_ г.
Регистрационный № ____
ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОНИКИ
Учебная программа для специальности
G-31-03-01-04
Математическая электроника
МИНСК
2006
Составитель:
В. В. Петров – профессор кафедры физики полупроводников и наноэлектроники Белорусского государственного университета, доктор физико–математических наук, старший научный сотрудник.
Рецензент:
В. Г. Шепелевич – профессор кафедры физики твердого тела Белорусского государственного университета, доктор физико–математических наук, профессор.
Рекомендована
к утверждению в качестве базовой:
Кафедрой уравнений математической физики Белорусского государственного универ-
ситета (протокол № 7 от «14 » июня 2006 г.);
Методическим советом механико-математического факультета Белорусского государственного университета (протокол № от « » 2006 г.).
Ответственный за редакцию: В. В. Петров
Ответственный за выпуск: В. В. Петров
I. ПОЯСНИТЕЛЬНАЯ ЗАПИСКА
Программа курса "Физические основы электроники " разработана для специализации: -- Математическая электроника.
Цель данного курса определяется необходимостью формирования у студентов современных представлений о твердотельной электронике, включающих наиболее актуальные аспекты физики и техники основных полупроводниковых материалов и структур, развития полученных при обучении знаний и навыков для последующего обучения и проведения научно-исследовательской работы по соответствующей тематике.
Студентам необходимо сформулировать и разъяснить основные проблемы физики полупроводников и полупроводниковых структур, физические аспекты протекающих в них явлений и процессов и на адекватном уровне их интерпретировать. В настоящем курсе излагаются основные, фундаментальные вопросы физики и техники полупроводников и полупроводниковых структур с акцентом на их физическую сущность, понимание которой является необходимым условием успешной профессиональной деятельности будущего специалиста, который будет работать в области математической электроники.
В разделе «Основы теории полупроводников» рассматриваются фундаментальные свойства кристаллов в контексте реализации в них конкретных химических связей; анализируются явления электропереноса в металлах и полупроводниках; с акцентом на полупроводники излагаются основные сведения о зонной энергетической модели твердых тел; раскрывается физическая сущность принципа запрета Паули и излагаются основы статистики носителей заряда Максвелла и Ферми-Дирака; определяются понятия собственного, примесного и компенсированного полупроводников; рассматривается круг основных явлений, которые характерны для этих материалов; в теоретическом и прикладном аспектах анализируются явления генерации и рекомбинации носителей заряда в полупроводниках, а также процессы диффузии легирующих примесей и носителей заряда в материалах и структурах.
В разделе «Основы физики полупроводниковых приборов» дан краткий анализ основных явлений, протекающих на границе кристалла; подробно рассматриваются вопросы, связанные с работой выхода из металлов, полупроводников и диэлектриков. Рассматривается роль поверхностных состояний и их влияние на зонную структуру и физические свойства полупроводников. При рассмотрении эффекта проникновения внешнего поля в материалы интерпретируется уравнение Пуассона, определяются параметры энергетических барьеров и влияние на них уровня легирования полупроводников. Отдельно выделены вопросы, связанные с физическими основами технологии изготовления электронно-дырочных переходов на базе полупроводниковых материалов. Освещены основные вопросы, касающиеся физики р-п переходов как в обратно,- так и в прямосмещенном режимах. Проанализированы в теоретическом и прикладном аспектах вопросы ударной ионизации и пробоя р-п структур. Детально рассмотрены вольт-амперные характеристики как расчетные, так и для реальных диодов, изготовленных из основных полупроводниковых материалов. В заключение приведены основные сведения и принципе работы и характеристиках основных полупроводниковых диодов.
Отдельно в курсе рассмотрена работа биполярного и полевого транзисторов. С физической точки зрения интерпретированы их основные параметры. Проанализированы принципы работы и параметры основных типов транзисторов.
Кроме двух- и трехслойных структур рассмотрены также вопросы, связанные с функционированием полупроводниковых датчиков, не содержащих р-п переходов. Отдельно на наиболее типичных структурах проанализированы принцип действия и характеристики приборов, обладающих вольт-амперной характеристикой S-типа.
Курс лекций представляет собой систематизированное многоплановое изложение ряда основных направлений твердотельной электроники, включающее основные разделы физики полупроводников и полупроводниковых приборов.
Адаптированный к данному курсу в рамках КСР комплекс вопросов направлен на развитие у студентов навыков активной самостоятельной работы.
Материал курса основан на базовых знаниях и представлениях, заложенных в общих курсах по физике и микроэлектронике. Он является базовым для последующих спецкурсов.
Программа курса составлена в соответствии с требованиями образовательного стандарта и рассчитана на 102 часа. Примерное распределение учебных часов по видам занятий следующее: лекции — 64 часа, семинарские занятия – 32 часа, контролируемая самостоятельная работа студента — 6 часов. Форма отчётности — зачет, экзамен.
На основе данной учебной программы разрабатывается рабочая программа, в которой возможны изменения последовательности изложения содержания отдельных разделов, а также их относительного объема.
II. СОДЕРЖАНИЕ ПРОГРАММЫ
Введение. Основные, современные тенденции развития микро-, нано- и оптоэлектроники в контексте развития физики и техники полупроводников.
ОСНОВЫ ТЕОРИИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
Кристаллы.
Понятие кристалла. Особенности строения кристаллов и их основные свойства. Свободная энергия и энергия связи. Координационное число. Ковалентная связь в кристаллах. Структура алмаза. Ионная связь. Металлическая связь.
2. Металлы и полупроводники
Свободные электроны в металле. Влияние внешнего электрического поля на движение электронов в металле. Подвижность электронов в металле. Зависимость удельного сопротивления металлов от температуры.
Механизмы образования носителей тока в полупроводниках. Тепловое движение. Энергия ионизации атома. Флуктуации энергии. Длина свободного пробега, диффузионная длина носителей заряда в полупроводниках. Соотношение Эйнштейна.
3.Электропроводность и основы зонной теории полупроводников.
Принцип запрета Паули. Спин электрона. Функции распределения Максвелла-Больцмана и Ферми-Дирака. Химический потенциал. Основные свойства уровня Ферми.
Понятие энергетической зоны. Основные причины возникновения энергетических зон. Энергетические диаграммы спектров валентных электронов металла, полупроводника и изолятора. Условия возникновения электропроводности в полупроводниках. Ширина запрещенной зоны полупроводников. Факторы, влияющие на величину данного параметра. Энергетическая диаграмма полупроводника, находящегося в однородном электрическом поле.
Собственная электропроводность полупроводников.
Донорные и акцепторные примеси в полупроводниках. Понятие дырки и дырочной проводимости. Примесная электропроводность полупроводников. Примесное истощение. Компенсация. Температурная зависимость концентрации носителей заряда в полупроводниках.
4. Генерация, рекомбинация, диффузия и дрейф носителей заряда в полупроводниках.
Тепловая и световая генерация носителей заряда в полупроводниках Рекомбинация носителей заряда. Межзонная рекомбинация и рекомбинация с участием рекомбинационных ловушек.
Время жизни неравновесных носителей заряда в полупроводниках. Случай линейной рекомбинации. Ловушки захвата носителей заряда и центры рекомбинации. Безизлучательная и излучательная рекомбинация носителей заряда в полупроводниках. Явление диффузии в полупроводниках. Физический смысл коэффициента диффузии. Плотность диффузионного потока и диффузионный ток в полупроводниках.
ОСНОВЫ ФИЗИКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ
5. Барьеры.
Барьер на границе кристалла. Физические причины его формирования. Работа выхода (металл, диэлектрик). Образование двойного заряженного слоя. Методы определения величины работы выхода. Работа выхода в полупроводниках с электронной и дырочной проводимостью.
Поверхностные состояния (уровни Тамма). Изгибы энергетических зон, связанные с присутствием поверхностных состояний. Поверхностный потенциал. Влияние поверхностных состояний на работу выхода в полупроводниках..
6. Основные параметры энергетических барьеров в полупроводниках.
Механизмы проникновения внешнего электрического поля в металл, диэлектрик и полупроводник. Уравнение Пуассона. Распределение электрического поля в барьере. Ширина барьера. Влияние уровня легирования на высоту и ширину энергетического барьера.
7. p-n переход.
Методы получения p-n переходов (сплавление; диффузия; ионная имплантация).
Образование потенциального барьера на границе p-n перехода. Двойной заряженный слой. Основные параметры потенциального барьера. Высота барьера p-n пeрехода. Возникновение обедненного слоя. Распределение электрического поля в потенциальном барьере. Ширина барьера. Равновесие в p-n переходе. Ток насыщения.
Обратно смещенный p-n переход. Распределение напряжения в p-n переходе при приложении обратного смещения. Высота и форма потенциального барьера обратносмещенного p-n перехода. Обратный ток. Описание вольт-амперных характеристик обратносмещенного германиевого p-n перехода; их сравнение с ВАХ для кремниевых и арсенидгаллиевых диодов. Генерационный ток. Барьерная емкость.
Ударная ионизация. Коэффициенты умножения носителей и ударной ионизации. ВАХ лавинного диода. Схема защиты аппаратуры от перенапряжения с помощью использования лавинного диода.
Прямосмещенный p-n переход. Высота потенциального барьера прямосмещенного p-n перехода. Сравнение теоретически рассчитанной вольт-амперной характеристики с реальной ВАХ германиевого диода. Инжекция.
8. Полупроводниковые диоды. (КСР)
Выпрямительные диоды. Стабилитроны. Импульсные высокочастотные и СВЧ диоды. Диоды с накоплением заряда. Диоды Шоттки. Варикапы. Параметрические диоды. Фотоэлектрические приемники. Полупроводниковые источники излучения. Варисторы. Туннельные диоды. Диоды Ганна.
8. Биполярный транзистор.
Принцип работы биполярного транзистора. Параметры биполярного транзистора: усиление по току; коэффициент переноса; коэффициент усиления по току; быстродействие.
Дрейфовый транзистор. Фототранзисторы. Оптоэлектронные транзисторы. Оптроны.
9. Полевой транзистор.
Основная идея создания полевого транзистора (идея Лилиенфельда). Роль поверхностных состояний в практической реализации идеи Лилиенфельда.
Полевой транзистор с переходом (практическая реализация идеи Шокли).
МДП (МОП) транзисторы.
Транзисторы со встроенным и индуцированным каналами. Проводимость канала полевого транзистора. Напряжение отсечки. Пороговое напряжение.
Основные параметры полевых транзисторов: крутизна; быстродействие.
Биполярные и полевые транзисторы: общие свойства и основные различия.
10. Полупроводниковые приборы с вольт-амперной характеристикой S-типа.
Общая характеристика приборов с отрицательным сопротивлением. S-диод. Однопереходной транзистор. Лавинный транзистор. Транзистор с коллекторной утечкой. Модуляционный транзистор. Четырехслойные структуры. Тиристоры.
11. Полупроводниковые датчики.
Датчики температуры. Тензодатчики. Датчики магнитного поля. (4 ч.).
Основная и дополнительная литература
а) основная
!1. 2. Стильбанс Л.С. Физика полупроводников. – М.: «Советское радио», 1967. – 452 с. !
Блейкмор Дж. Физика твердого состояния. – М.: «Металлургия», 1972.
– 486 с.
- Соминский М.С. Полупроводники – М.: «Физматгиз», 1961, -- 417 с.
--320 с.
- Пасынков В.П., Сорокин В.С. Материалы электронной техники. – С.-П.: «Лань», 2001. – 360 с.
- Левинштейн М.Е., Симин Г.С. Барьеры. – М.: «Наука», 1987. – 320 с.
- Викулин И.М., Стафеев В. И. Физика полупроводниковых приборов – М.: «Советское радио», 1980. –297 с.
- Пасынков В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы. – С.-П.: «Лань», 2001.
– 362 с.
!
б) дополнительная
Шалимова К.В. Физика полупроводников. — М.: «Энергия», 1976.
-- 392 с. !
2. Мидлбрук. Р.Д. Введение в теорию транзисторов. – М.: «Атомиздат», 1960.
-- 412 с.
3. Федотов Я.А. Основы физики полупроводниковых приборов. – М.: «Сов. радио», 1969. – 389 с.
4. Епифанов Г.И. Физические основы микроэлектроники. – М.: «Энергия», 1969. – 518 с.
III ТЕМЫ СЕМИНАРСКИХ ЗАНЯТИЙ
ФИЗИКА полупроводников
Статистика носителей заряда в собственных полупроводниках (концентрация носителей заряда при термодинамическом равновесии).
- Статистика носителей заряда в примесных полупроводниках (концентрация носителей заряда при термодинамическом равновесии).
- Температурная зависимость концентрации носителей заряда в полупроводниках.
- Механизмы рассеяния и подвижность носителей заряда в полупроводниках.
- Неравновесные носители заряда и механизмы рекомбинации в полупроводниках.
- Время жизни неравновесных носителей заряда в полупроводниках. Температурная зависимость времени жизни.
- Механизмы поглощения света в полупроводниках (собственное, экситонное, примесное поглощение и поглощение решеткой).
- Фотопроводимость полупроводников. Релаксация и спектральная зависимость фотопроводимости.
- Механизмы люминесценции в полупроводниках.
- Эффект Холла (полупроводник с носителями заряда одного типа).
- Эффект Холла (полупроводник с носителями заряда двух типов).
- Отступления от закона Ома для полупроводников в сильных электрических полях.
- Термоэлектронная и ударная ионизация носителей в полупроводниках. Туннельный эффект.
- Эффект Ганна.
Физика полупроводниковых приборов
Выпрямительные диоды.
- Стабилитроны.
- Импульсные высокочастотные и СВЧ диоды. Диоды с накоплением заряда.
- Варикапы и параметрические диоды.
- Влияние света на р--n-переход.
- Фотодиоды (физические принципы работы и основные параметры).
- Фотоэлементы.
- Координатно-чувствительные фотоприемники.
- Светодиоды.
- Лазер на р—n-переходе.
- Варисторы.
- Шумы в полупроводниковых диодах.
- Дрейфовый транзистор.
- Фототранзисторы.
- Оптоэлектронные транзисторы.
- Оптроны.
- Полевой транзистор с р--n-переходом.
- Полевые транзисторы с изолированным затвором (МДП-транзисторы).
- Общая характеристика приборов с вольт-амперной характеристикой S -типа.
- S–диод.
- Однопереходной транзистор.
- Лавинный транзистор.
- Транзистор с коллекторной утечкой.
- Инжекционно-полевой транзистор.
- Четырехслойные р—n--р-- n-структуры.
- Тиристоры.
- Туннельные диоды.
- Диоды Ганна.
- Лавинно-пролетные диоды.
- Терморезисторы.
- Диоды, транзисторы и тиристоры как датчики температуры.
- Тензодатчики.
- Тензорезисторы.
- Инжекционные тензодиоды.
- Датчики на основе эффекта Холла.
- Магнитодиоды.
- Магнитотранзисторы.
- Нейристоры.
- Приборы с зарядовой связью.
- Акустоэлектронные приборы.