В. И. Стражев 200 г. Регистрационный № физические основы электроники учебная программа

Вид материалаПрограмма

Содержание


I. пояснительная записка
Ii. содержание программы
Основы теории полупроводников
2. Металлы и полупроводники
3.Электропроводность и основы зонной теории полупроводников.
4. Генерация, рекомбинация, диффузия и дрейф носителей заряда в полупроводниках.
Основы физики полупроводниковых приборов
6. Основные параметры энергетических барьеров в полупроводниках.
7. p-n переход.
8. Полупроводниковые диоды. (КСР)
9. Полевой транзистор.
10. Полупроводниковые приборы с вольт-амперной характеристикой S-типа.
Iii темы семинарских занятий
Физика полупроводниковых приборов
Подобный материал:
Белорусский государственный университет


УТВЕРЖДАЮ


Ректор Белгосуниверситета

________________ В.И. Стражев

«____» ___________ 200_ г.


Регистрационный № ____


ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОНИКИ

Учебная программа для специальности


G-31-03-01-04

Математическая электроника


МИНСК

2006

Составитель:


В. В. Петров – профессор кафедры физики полупроводников и наноэлектроники Белорусского государственного университета, доктор физико–математических наук, старший научный сотрудник.


Рецензент:


В. Г. Шепелевич – профессор кафедры физики твердого тела Белорусского государственного университета, доктор физико–математических наук, профессор.


Рекомендована

к утверждению в качестве базовой:


Кафедрой уравнений математической физики Белорусского государственного универ-

ситета (протокол № 7 от «14 » июня 2006 г.);


Методическим советом механико-математического факультета Белорусского государственного университета (протокол № от « » 2006 г.).


Ответственный за редакцию: В. В. Петров


Ответственный за выпуск: В. В. Петров


I. ПОЯСНИТЕЛЬНАЯ ЗАПИСКА


Программа курса "Физические основы электроники " разработана для специализации:  -- Математическая электроника.

Цель данного курса определяется необходимостью формирования у студентов современных представлений о твердотельной электронике, включающих наиболее актуальные аспекты физики и техники основных полупроводниковых материалов и структур, развития полученных при обучении знаний и навыков для последующего обучения и проведения научно-исследовательской работы по соответствующей тематике.

Студентам необходимо сформулировать и разъяснить основные проблемы физики полупроводников и полупроводниковых структур, физические аспекты протекающих в них явлений и процессов и на адекватном уровне их интерпретировать. В настоящем курсе излагаются основные, фундаментальные вопросы физики и техники полупроводников и полупроводниковых структур с акцентом на их физическую сущность, понимание которой является необходимым условием успешной профессиональной деятельности будущего специалиста, который будет работать в области математической электроники.

В разделе «Основы теории полупроводников» рассматриваются фундаментальные свойства кристаллов в контексте реализации в них конкретных химических связей; анализируются явления электропереноса в металлах и полупроводниках; с акцентом на полупроводники излагаются основные сведения о зонной энергетической модели твердых тел; раскрывается физическая сущность принципа запрета Паули и излагаются основы статистики носителей заряда Максвелла и Ферми-Дирака; определяются понятия собственного, примесного и компенсированного полупроводников; рассматривается круг основных явлений, которые характерны для этих материалов; в теоретическом и прикладном аспектах анализируются явления генерации и рекомбинации носителей заряда в полупроводниках, а также процессы диффузии легирующих примесей и носителей заряда в материалах и структурах.

В разделе «Основы физики полупроводниковых приборов» дан краткий анализ основных явлений, протекающих на границе кристалла; подробно рассматриваются вопросы, связанные с работой выхода из металлов, полупроводников и диэлектриков. Рассматривается роль поверхностных состояний и их влияние на зонную структуру и физические свойства полупроводников. При рассмотрении эффекта проникновения внешнего поля в материалы интерпретируется уравнение Пуассона, определяются параметры энергетических барьеров и влияние на них уровня легирования полупроводников. Отдельно выделены вопросы, связанные с физическими основами технологии изготовления электронно-дырочных переходов на базе полупроводниковых материалов. Освещены основные вопросы, касающиеся физики р-п переходов как в обратно,- так и в прямосмещенном режимах. Проанализированы в теоретическом и прикладном аспектах вопросы ударной ионизации и пробоя р-п структур. Детально рассмотрены вольт-амперные характеристики как расчетные, так и для реальных диодов, изготовленных из основных полупроводниковых материалов. В заключение приведены основные сведения и принципе работы и характеристиках основных полупроводниковых диодов.

Отдельно в курсе рассмотрена работа биполярного и полевого транзисторов. С физической точки зрения интерпретированы их основные параметры. Проанализированы принципы работы и параметры основных типов транзисторов.

Кроме двух- и трехслойных структур рассмотрены также вопросы, связанные с функционированием полупроводниковых датчиков, не содержащих р-п переходов. Отдельно на наиболее типичных структурах проанализированы принцип действия и характеристики приборов, обладающих вольт-амперной характеристикой S-типа.

Курс лекций представляет собой систематизированное многоплановое изложение ряда основных направлений твердотельной электроники, включающее основные разделы физики полупроводников и полупроводниковых приборов.

Адаптированный к данному курсу в рамках КСР комплекс вопросов направлен на развитие у студентов навыков активной самостоятельной работы.

Материал курса основан на базовых знаниях и представлениях, заложенных в общих курсах по физике и микроэлектронике. Он является базовым для последующих спецкурсов.

Программа курса составлена в соответствии с требованиями образовательного стандарта и рассчитана на 102 часа. Примерное распределение учебных часов по видам занятий следующее: лекции — 64 часа, семинарские занятия – 32 часа, контролируемая самостоятельная работа студента — 6 часов. Форма отчётности — зачет, экзамен.

На основе данной учебной программы разрабатывается рабочая программа, в которой возможны изменения последовательности изложения содержания отдельных разделов, а также их относительного объема.


II. СОДЕРЖАНИЕ ПРОГРАММЫ

Введение. Основные, современные тенденции развития микро-, нано- и оптоэлектроники в контексте развития физики и техники полупроводников.

ОСНОВЫ ТЕОРИИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

  1. Кристаллы.

Понятие кристалла. Особенности строения кристаллов и их основные свойства. Свободная энергия и энергия связи. Координационное число. Ковалентная связь в кристаллах. Структура алмаза. Ионная связь. Металлическая связь.


2. Металлы и полупроводники

Свободные электроны в металле. Влияние внешнего электрического поля на движение электронов в металле. Подвижность электронов в металле. Зависимость удельного сопротивления металлов от температуры.

Механизмы образования носителей тока в полупроводниках. Тепловое движение. Энергия ионизации атома. Флуктуации энергии. Длина свободного пробега, диффузионная длина носителей заряда в полупроводниках. Соотношение Эйнштейна.


3.Электропроводность и основы зонной теории полупроводников.

Принцип запрета Паули. Спин электрона. Функции распределения Максвелла-Больцмана и Ферми-Дирака. Химический потенциал. Основные свойства уровня Ферми.

Понятие энергетической зоны. Основные причины возникновения энергетических зон. Энергетические диаграммы спектров валентных электронов металла, полупроводника и изолятора. Условия возникновения электропроводности в полупроводниках. Ширина запрещенной зоны полупроводников. Факторы, влияющие на величину данного параметра. Энергетическая диаграмма полупроводника, находящегося в однородном электрическом поле.

Собственная электропроводность полупроводников.

Донорные и акцепторные примеси в полупроводниках. Понятие дырки и дырочной проводимости. Примесная электропроводность полупроводников. Примесное истощение. Компенсация. Температурная зависимость концентрации носителей заряда в полупроводниках.

4. Генерация, рекомбинация, диффузия и дрейф носителей заряда в полупроводниках.

Тепловая и световая генерация носителей заряда в полупроводниках Рекомбинация носителей заряда. Межзонная рекомбинация и рекомбинация с участием рекомбинационных ловушек.

Время жизни неравновесных носителей заряда в полупроводниках. Случай линейной рекомбинации. Ловушки захвата носителей заряда и центры рекомбинации. Безизлучательная и излучательная рекомбинация носителей заряда в полупроводниках. Явление диффузии в полупроводниках. Физический смысл коэффициента диффузии. Плотность диффузионного потока и диффузионный ток в полупроводниках.


ОСНОВЫ ФИЗИКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ


5. Барьеры.

Барьер на границе кристалла. Физические причины его формирования. Работа выхода (металл, диэлектрик). Образование двойного заряженного слоя. Методы определения величины работы выхода. Работа выхода в полупроводниках с электронной и дырочной проводимостью.

Поверхностные состояния (уровни Тамма). Изгибы энергетических зон, связанные с присутствием поверхностных состояний. Поверхностный потенциал. Влияние поверхностных состояний на работу выхода в полупроводниках..


6. Основные параметры энергетических барьеров в полупроводниках.

Механизмы проникновения внешнего электрического поля в металл, диэлектрик и полупроводник. Уравнение Пуассона. Распределение электрического поля в барьере. Ширина барьера. Влияние уровня легирования на высоту и ширину энергетического барьера.


7. p-n переход.

Методы получения p-n переходов (сплавление; диффузия; ионная имплантация).

Образование потенциального барьера на границе p-n перехода. Двойной заряженный слой. Основные параметры потенциального барьера. Высота барьера p-n пeрехода. Возникновение обедненного слоя. Распределение электрического поля в потенциальном барьере. Ширина барьера. Равновесие в p-n переходе. Ток насыщения.

Обратно смещенный p-n переход. Распределение напряжения в p-n переходе при приложении обратного смещения. Высота и форма потенциального барьера обратносмещенного p-n перехода. Обратный ток. Описание вольт-амперных характеристик обратносмещенного германиевого p-n перехода; их сравнение с ВАХ для кремниевых и арсенидгаллиевых диодов. Генерационный ток. Барьерная емкость.

Ударная ионизация. Коэффициенты умножения носителей и ударной ионизации. ВАХ лавинного диода. Схема защиты аппаратуры от перенапряжения с помощью использования лавинного диода.

Прямосмещенный p-n переход. Высота потенциального барьера прямосмещенного p-n перехода. Сравнение теоретически рассчитанной вольт-амперной характеристики с реальной ВАХ германиевого диода. Инжекция.


8. Полупроводниковые диоды. (КСР)

Выпрямительные диоды. Стабилитроны. Импульсные высокочастотные и СВЧ диоды. Диоды с накоплением заряда. Диоды Шоттки. Варикапы. Параметрические диоды. Фотоэлектрические приемники. Полупроводниковые источники излучения. Варисторы. Туннельные диоды. Диоды Ганна.


8. Биполярный транзистор.

Принцип работы биполярного транзистора. Параметры биполярного транзистора: усиление по току; коэффициент переноса; коэффициент усиления по току; быстродействие.

Дрейфовый транзистор. Фототранзисторы. Оптоэлектронные транзисторы. Оптроны.

9. Полевой транзистор.

Основная идея создания полевого транзистора (идея Лилиенфельда). Роль поверхностных состояний в практической реализации идеи Лилиенфельда.

Полевой транзистор с переходом (практическая реализация идеи Шокли).

МДП (МОП) транзисторы.

Транзисторы со встроенным и индуцированным каналами. Проводимость канала полевого транзистора. Напряжение отсечки. Пороговое напряжение.

Основные параметры полевых транзисторов: крутизна; быстродействие.

Биполярные и полевые транзисторы: общие свойства и основные различия.

10. Полупроводниковые приборы с вольт-амперной характеристикой S-типа.

Общая характеристика приборов с отрицательным сопротивлением. S-диод. Однопереходной транзистор. Лавинный транзистор. Транзистор с коллекторной утечкой. Модуляционный транзистор. Четырехслойные структуры. Тиристоры.

11. Полупроводниковые датчики.

Датчики температуры. Тензодатчики. Датчики магнитного поля. (4 ч.).


Основная и дополнительная литература


а) основная

!1. 2. Стильбанс Л.С. Физика полупроводников. – М.: «Советское радио», 1967. – 452 с. !

  1. Блейкмор Дж. Физика твердого состояния. – М.: «Металлургия», 1972.

– 486 с.
  1. Соминский М.С. Полупроводники – М.: «Физматгиз», 1961, -- 417 с.

--320 с.
  1. Пасынков В.П., Сорокин В.С. Материалы электронной техники. – С.-П.: «Лань», 2001. – 360 с.
  2. Левинштейн М.Е., Симин Г.С. Барьеры. – М.: «Наука», 1987. – 320 с.
  3. Викулин И.М., Стафеев В. И. Физика полупроводниковых приборов – М.: «Советское радио», 1980. –297 с.
  4. Пасынков В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы. – С.-П.: «Лань», 2001.

– 362 с.

!


б) дополнительная


  1. Шалимова К.В. Физика полупроводников. — М.: «Энергия», 1976.

-- 392 с. !

2. Мидлбрук. Р.Д. Введение в теорию транзисторов. – М.: «Атомиздат», 1960.

-- 412 с.

3. Федотов Я.А. Основы физики полупроводниковых приборов. – М.: «Сов. радио», 1969. – 389 с.

4. Епифанов Г.И. Физические основы микроэлектроники. – М.: «Энергия», 1969. – 518 с.


III ТЕМЫ СЕМИНАРСКИХ ЗАНЯТИЙ

ФИЗИКА полупроводников


  1. Статистика носителей заряда в собственных полупроводниках (концентрация носителей заряда при термодинамическом равновесии).
  2. Статистика носителей заряда в примесных полупроводниках (концентрация носителей заряда при термодинамическом равновесии).
  3. Температурная зависимость концентрации носителей заряда в полупроводниках.
  4. Механизмы рассеяния и подвижность носителей заряда в полупроводниках.
  5. Неравновесные носители заряда и механизмы рекомбинации в полупроводниках.
  6. Время жизни неравновесных носителей заряда в полупроводниках. Температурная зависимость времени жизни.
  7. Механизмы поглощения света в полупроводниках (собственное, экситонное, примесное поглощение и поглощение решеткой).
  8. Фотопроводимость полупроводников. Релаксация и спектральная зависимость фотопроводимости.
  9. Механизмы люминесценции в полупроводниках.
  10. Эффект Холла (полупроводник с носителями заряда одного типа).
  11. Эффект Холла (полупроводник с носителями заряда двух типов).
  12. Отступления от закона Ома для полупроводников в сильных электрических полях.
  13. Термоэлектронная и ударная ионизация носителей в полупроводниках. Туннельный эффект.
  14. Эффект Ганна.


Физика полупроводниковых приборов





  1. Выпрямительные диоды.
  2. Стабилитроны.
  3. Импульсные высокочастотные и СВЧ диоды. Диоды с накоплением заряда.
  4. Варикапы и параметрические диоды.
  5. Влияние света на р--n-переход.
  6. Фотодиоды (физические принципы работы и основные параметры).
  7. Фотоэлементы.
  8. Координатно-чувствительные фотоприемники.
  9. Светодиоды.
  10. Лазер на р—n-переходе.
  11. Варисторы.
  12. Шумы в полупроводниковых диодах.
  13. Дрейфовый транзистор.
  14. Фототранзисторы.
  15. Оптоэлектронные транзисторы.
  16. Оптроны.
  17. Полевой транзистор с р--n-переходом.
  18. Полевые транзисторы с изолированным затвором (МДП-транзисторы).
  19. Общая характеристика приборов с вольт-амперной характеристикой S -типа.
  20. S–диод.
  21. Однопереходной транзистор.
  22. Лавинный транзистор.
  23. Транзистор с коллекторной утечкой.
  24. Инжекционно-полевой транзистор.
  25. Четырехслойные р—n--р-- n-структуры.
  26. Тиристоры.
  27. Туннельные диоды.
  28. Диоды Ганна.
  29. Лавинно-пролетные диоды.
  30. Терморезисторы.
  31. Диоды, транзисторы и тиристоры как датчики температуры.
  32. Тензодатчики.
  33. Тензорезисторы.
  34. Инжекционные тензодиоды.
  35. Датчики на основе эффекта Холла.
  36. Магнитодиоды.
  37. Магнитотранзисторы.
  38. Нейристоры.
  39. Приборы с зарядовой связью.
  40. Акустоэлектронные приборы.