Подготовка оптического производства для изготовления круговых шкал (лимбов)
Курсовой проект - Разное
Другие курсовые по предмету Разное
I.
По большинству параметров использование способа прямой фотолитографии, удовлетворяет технические требования, кроме угловой погрешности. Поэтому выберем метод обратной фотолитографии. По этим же причинам для изготовления рабочего фотошаблона следует использовать способ обратной фотолитографии. Термохимическая технология записи на пленках хрома, используемая на генераторе CLWS-300 обеспечивает возможность изготовления фотошаблона-оригинала.
6. Ведомость оснащения
Ведомость оснащения - это технический документ, содержащий информацию о том, какую оснастку и инструмент необходимо спроектировать и в каком количестве изготовить для того, чтобы можно было изготавливать деталь, изделие или др. Кроме того, ведомость оснащения определяет сроки проектирования и изготовления, подразделения, ответственные за проектирование и изготовление.
Сроки проектирования и изготовления устанавливаются 1-2 месяца от текущей даты в зависимости от сложности оснастки.
Таблица 3
Ведомость оснащения
№ п/пНаименование оснасткиКоличествоПроектированиеСрокИзготовлениеСрокПолучатель1Фотошаблон- оригинал1Цех новой техники23.05 - 10.06Отдел главного оптика10.06 - 10.07Оптическое производство2Рабочий фотошаблон2Цех новой техники23.05 - 10.06Отдел главного оптика10.06 - 10.07Оптическое производство3Оправа для нанесения и проявления фоторезиста2Цех новой техники23.05 - 10.06Цех новой техники10.06 - 10.07Оптическое производство4Оправа для напыления хрома15Цех новой техники23.05 - 10.06Цех новой техники10.06 - 10.07Оптическое производство5Оправа для напыления хрома10Цех новой техники23.05 - 10.06Цех новой техники10.06 - 10.07Оптическое производство6Оправа для контроля3Цех новой техники23.05 - 10.06Цех новой техники10.06 - 10.07Оптическое производство7Кассета20Цех новой техники23.05 - 10.06Цех новой техники10.06 - 10.07Оптическое производство8Технологическая тара10Цех новой техники23.05 - 10.06Цех новой техники10.06 - 10.07Оптическое производство9Кассета для снятия фоторезиста2Цех новой техники23.05 - 10.06Цех новой техники10.06 - 10.07Оптическое производство10Емкость для снятия фоторезиста2Цех новой техники23.05 - 10.06Цех новой техники10.06 - 10.07Оптическое производство
7. Технические задания на проектирование рабочих фотошаблонов
Целью разработки технических заданий является определение допусков на линейные и угловые параметры фотошаблонов лимбов, требований по дефектности, вида изображений (позитивное или негативное, прямое или зеркальное), применяемых заготовок и др. Технические задания, как на рабочие фотошаблоны, так и на фотошаблоны-оригиналы должны содержать следующие сведения:
.Геодезический лимб, который будет изготавливаться способом обратной фотолитографии, имеет темные элементы топологии на светлом фоне, изображение цифр - зеркальное, направление оцифровки - против хода часовой стрелки. В этом случае для рабочего фотошаблона следует указать: изображение фотошаблона зеркальное, негативное, элементы топологии светлые на темном фоне, изображение цифр - прямое, направление оцифровки - по ходу часовой стрелки;
2.Допустимая угловая погрешность расположения диаметров осей штрихов лимба составляет только 1,2 угл. сек. В этом случае угловую погрешность следует установить одинаковую для фотошаблона-оригинала и рабочего фотошаблона, и равную 1 угл. сек., а рабочие фотошаблоны с требуемой угловой погрешностью следует получать методом отбора из нескольких фотошаблонов;
3.Как правило, наиболее критичными допусками являются допуски на ширину штриха. Поле допусков для лимбов может составлять от 1 мкм ( 0,5 мкм) до 5 мкм и более. Требуемое поле допуска для термохимической технологии записи на пленках хрома (фотошаблон-оригинал) составляет не менее 0,5 мкм. Для рабочего фотошаблона, изготавливаемого способом обратной фотолитографии, допуск необходимо увеличить не менее чем на 0,3 мкм. На такое же значение должен увеличиться допуск при изготовлении лимба способом обратной фотолитографии.
Ширина штриха лимба 2Т2-1-79 составляет 82 мкм, лимб и рабочий фотошаблон изготавливаются способом обратной фотолитографии. В этом случае допуск для фотошаблона-оригинала составит 1,2 мкм.
На чертежах лимбов имеется кроме ширины штрихов много других линейных размеров. Их можно разделить условно на критичные и некритичные размеры. Критичными являются размеры, допуски на которые близки по своим значениям к допускам, которые обеспечивают технологические процессы. Критичными размерами могут быть ширина обводки цифр, ширина обводки знаков, ширина центрировочной окружности и др. Для них распределение допусков для фотошаблонов производится так же, как и для ширины штриха. Допуски на некритичные размеры устанавливаются следующим образом: для рабочих фотошаблонов допуски ужесточаются в 2 раза, допуски для фотошаблонов-оригиналов ужесточаются в 3 раза по сравнению с допусками для лимба. В технических заданиях допуски на критичные размеры надо указывать конкретно для каждого фотошаблона и для каждого размера, ужесточение допусков для некритичных размеров указывается одновременно для всех некритичных размеров. Иногда в чертежах лимбов указываются несимметричные допуски. В этом случае, как для критичных, так и для некритичных размеров необходимо указывать конкретные допуски.
Специфическим линейным параметром является неравномерность ширины штрихов лимба. Как правило, она не бывает меньше 0,4 мкм. Такое значение можно достичь только, если лимб и рабочий фотошаблон изготав