Отчет о научно-исследовательской работе за 2008 год Тема нир: Разработка новых радиоволновых и оптических методов исследования параметров материалов, микро- и наноструктур
Вид материала | Отчет |
- Отчет о научно-исследовательской работе за 2007 год Тема нир: Разработка новых радиоволновых, 53.72kb.
- Отчет о научно-исследовательской работе за 2008 год Тема нир: Разработка новых нанотехнологий, 100.77kb.
- Отчет о научно-исследовательской работе за 2007 год Тема нир: Разработка и создание, 107.74kb.
- Отчет о научно-исследовательской работе за 2008 год Тема нир: Исследование новых механизмов, 65.37kb.
- Отчет о научно исследовательской работе кафедры акушерства и гинекологии белмапо, 288.29kb.
- Отчёт о научно-исследовательской работе за 2009 год, 851.3kb.
- Отчёт о научно-исследовательской работе за 2011 год, 1208.93kb.
- Отчет о научно-исследовательской работе по государственному контракту №02. 740. 11., 805.57kb.
- Отчет о научно-исследовательской работе, 4231.21kb.
- Аннотационный отчет о научно-исследовательской работе за 2010 год, 1473.89kb.
АННОТИРОВАННЫЙ ОТЧЕТ
о научно-исследовательской работе за 2008 год
Тема НИР: Разработка новых радиоволновых и оптических методов исследования параметров материалов, микро- и наноструктур
Характер НИР: фундаментальное научное исследование
Исполнитель (руководитель) НИР: Усанов Д.А., д.ф.-м.н.,проф.
Вуз (организация), в котором проводится НИР: Саратовский государственный университет имени Н.Г. Чернышевского
Наименование структурного подразделения вуза (организации), в котором проводится НИР: Кафедра физики твердого тела, НИИ ЕН
Сроки проведения: начало - 01.01.2006 , окончание - 31.12.2008
Наименование годового отчетного/ завершающего этапа НИР: Разработка и создание новых радиоволновых и оптических методов исследования параметров материалов, микро- и наноструктур
Полученные научные и (или) научно-технические результаты: Разработано теоретическое обоснование возможности измерения параметров диэлектрических материалов, а также слоистых структур металл-полупроводник, металл-диэлектрик в широком диапазоне изменения их параметров по спектрам отражения и прохождения, взаимодействующего с ними сверхвысокочастотного излучения.
Экспериментально реализованы методы измерения толщины, электропроводности и диэлектрической проницаемости слоев в слоистых структурах металл-полупроводник, металл-диэлектрик, диэлектрической проницаемости диэлектрических материалов по спектрам отражения и прохождения, взаимодействующего с ними электромагнитного излучения.
Полученная научная и (или) научно-техническая продукция: Разработаны методы измерения параметров слоистых структур металл-полупроводник, металл-диэлектрик и объемных материалов по спектрам отражения и прохождения СВЧ-излучения в широком диапазоне их изменения;
Разработана программная и аппаратная реализация методов измерения электропроводности, толщины и диэлектрической проницаемости слоев в структурах металл-полупроводник, металл-диэлектрик, диэлектрической проницаемости диэлектрических материалов по спектрам отражения и прохождения, взаимодействующего с ними электромагнитного излучения.
Разработано программное обеспечение для векторного анализатора цепей Agilent N5230A PNA, реализующее технологии измерения толщины и электропроводности проводящих материалов и диэлектрической проницаемости диэлектрических материалов по спектрам отражения и прохождения взаимодействующего с ними излучения СВЧ-диапазона.
Ключевые слова и словосочетания, характеризующие результаты (продукцию): микро- и наноструктуры, исследование параметров, нанотехнологии, спектры отражения
Наличие аналога для сопоставления результатов (продукции) или отсутствие аналогов: аналог отсутствует
Преимущества полученных результатов (продукции) по сравнению с результатами аналогичных отечественных или зарубежных НИР:
а) по новизне: результаты являются новыми
б) по широте применения: в масштабах отрасли
в) в области получения новых знаний Разработаны технологии измерения толщины и электропроводности проводящих материалов по спектрам отражения и прохождения взаимодействующего с ними излучения СВЧ-диапазона: определение толщины нанометрового металлического слоя, нанесённого на полупроводниковую подложку, по спектрам прохождения электромагнитного излучения, определение толщины нанометровых металлических пленок и электропроводности полупроводника в слоистых структурах, определение электропроводности нанометрового металлического слоя по спектру отражения электромагнитной волны. Разработаны технологии измерения диэлектрических материалов по спектрам отражения и прохождения взаимодействующего с ними излучения СВЧ-диапазона: определение диэлектрической проницаемости и электропроводности полупроводниковых пластин с использованием спектров отражения электромагнитного излучения.
Степень готовности полученных результатов к практическому использованию: выполнен прототип (установки, методики, системы, программы и т.д.)
Предполагаемое использование результатов и продукции: Создание нового поколения систем для неразрушающего контроля параметров материалов микро- и наноструктурна основе технологии измерения толщины и электропроводности проводящих материалов и диэлектрической проницаемости диэлектрических материалов по спектрам отражения и прохождения взаимодействующего с ними излучения СВЧ-диапазона
Форма представления результатов НИР:
научно-технические отчеты - 1
публикации в ведущих научных журналах - 3
доклады - 6
патенты - 2
экспонаты выставок - 2
Библиографический список публикаций, отражающих результаты работы:
научно-технические отчеты:
1.отчет о научно-исследовательской работе
публикации в ведущих научных журналах:
1.Усанов Д.А., Скрипаль А.В., Абрамов А.В., Боголюбов А.С., Куликов М.Ю. Фотонные структуры и их использование для измерения параметров материалов// Известия вузов. Электроника. 2008. №5. С. 25-32
2.Усанов Д.А. и др. СВЧ-фотонные структуры и их использование для измерения параметров материалов и создания функциональных устройств СВЧ-электроники/ Физика волновых процессов и радиотехнические системы. 2008. Т. 11, № 3. С. 51-59
3.Усанов Д. А., Скрипаль А. В. Использование СВЧ-фотонных структур для измерения параметров нанометровых пленок// Успехи современной радиоэлектроники. 2008. №9. С.80-88.
доклады:
1.D.A. Usanov etc. Application of multilayer metal-dielectric structures for creation of wideband waveguide matched loads // XVII International Conference on Microwaves. Poland, Wroclaw, May 19-21, 2008. - V.2. P. 553-556
2.Усанов Д.А. и др. Использование микрополосковых и волноводных фотонных кристаллов для измерения параметров материалов и наноструктур// Материалы VI российско-японского семинара/ М.: Интерконтакт Наука. Усть-Каменогорск: 2008. С. 336-344
3.Усанов Д. А., Скрипаль А. В., Абрамов А. В., Боголюбов А. С. Компьютерный СВЧ-диагностический комплекс для измерения параметров слоистых микро- и наноструктур. Материалы КрыМиКо-2008. 8-12сент.2008г. Севастополь, Крым. Украина. С.692-693
4.Усанов Д. А., Скрипаль А. В., Абрамов А. В., Боголюбов А. С., Куликов М. Ю. Использование микрополосковых фотонных кристаллов для измерения параметров материалов. Материалы КрыМиКо-2008. 8-12сент.2008г. Севастополь, Крым. Украина. С.765-766
5.D. Usanov, Al. Skripal, A. Abramov, A. Bogolubov, M. Kulikov. Microstrip Photonic Crystals and their Application for Measurement Parameters of Materials. Proc. оf European Microwave Week 2008.Amsterdam. 27-31st October 2007. P. 785-788.
6. Усанов Д.А. и др. Фотонные структуры и их использование для измерения параметров материалов, микро- и нанометровых слоев и создания функциональных устройств СВЧ-электроники//Межд. Форум по нанотехнологиям. Москва, 3-5 декабря 2008 г. Том 1. С.152-154
патенты:
1.Патент на изобретение №2326368. Способ измерения параметров структуры "металлическая пленка - полупроводниковая или диэлектрическая подложка"/ Усанов Д.А., Скрипаль А.В., Абрамов А.В., Боголюбов А.С. Опубл. 10.06.2008. Бюл. №. 16
2.Свидетельство о государственной регистрации программы для ЭВМ А.с. №2008613234 "Микроволновый измеритель параметров слоистых структур "MicrowaveMeter" / Усанов Д.А., Скрипаль Ал.В., Скрипаль Ан.В., Абрамов А.В., Зарегистрировано 2 июля 2008 г.
экспонаты выставок:
1.Экспонат "Устройства для измерения толщин микро- и нанометровых пленок" Девятого международного форума "Высокие технологии XXI века" (Москва, ВК ЗАО "Экспоцентр", 22-25 апреля 2008 г.)
2.Экспонат "Измеритель наноперемещений и нановибраций". Международный форум по нанотехнологиям. Москва, 3 -5 декабря 2008 г. Центральный Выставочный Комплекс "Экспоцентр" на Красной Пресне
Использование результатов в учебном процессе: создание новых дисциплин, использование в преподавании существующих дисциплин
Число модернизированных и разработанных новых учебных программ высшего и послевузовского профессионального образования: 2
Предполагаемое развитие исследований Разработка новых методов неразрушающего контроля параметров материалов, микро- и наноструктур, основанных на использовании зондирующего сверхвысокочастотного и оптического излучения, и создание на их основе компьютерных диагностических комплексов