Спектроэллипсометр "эльф". Характеристики, области применения
| Вид материала | Документы |
- Кафедра переработки мяса и молока, 119.52kb.
- Специальность 01. 04. 07 Физика конденсированного состояния электровзрывные нанопорошки, 530.42kb.
- Новые разработки в области порошковых поликарбоксилатных суперпластификаторов, 145.26kb.
- Возможно изменение цен!, 3949.24kb.
- В. А. Коротков Представлена новая установка плазменного упрочнения, позволяющая закаливать, 166.9kb.
- «Эльфы» карельской литературы, 40.81kb.
- Демидова А. С. Д 30 Бегущая строка памяти: Автобиографическая проза, 4943.9kb.
- Материалы конференции «экспресс-методы химического анализа: достоинства и недостатки,, 213.19kb.
- Самостоятельная работа Поэтика литературного произведения в историко-генетической версии., 50.69kb.
- Вестник Российской Военно-медицинской академии, 2007, приложение №3(19), 170.66kb.
СПЕКТРОЭЛЛИПСОМЕТР "ЭЛЬФ". ХАРАКТЕРИСТИКИ, ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ
к.ф.-м.н. Рывкина Наталья Геннадьевна,
Концерн "Наноиндустрия"
Эллипсометрия – поляризационно-оптический метод исследования. Этот метод изучает изменение формы эллипса поляризации световой волны при ее взаимодействии с образцом. Непосредственно измеряемые параметры – эллипсометрические углы и , характеризующие изменение формы эллипса поляризации. Характеристики исследуемого образца определяются путем решения обратной задачи.
Эллипсометрия традиционно применяется для контроля параметров тонких пленок и многослойных тонкопленочных структур. Многослойные пленочные структуры с толщиной менее 100 нм широко используются в современной нанотехнологии, прежде всего в микро- и наноэлектронике. Кроме того, эллипсометрия успешно применяется для контроля процессов синтеза нанослоев – состава, скорости роста, дефектности и так далее. Эллипсометрия очень чувствительна к происходящим в образце изменениям, именно поэтому она перспективна для контроля технологических процессов. Отметим, что этот метод позволяет наблюдать за ростом нанослоев непосредственно в технологической установке и в реальном масштабе времени. Эллипсометрия является также эффективным методом оценки, во-первых, качества обработки поверхностей – шероховатости, наличия и концентрации наноразмерных дефектов, во-вторых, степени чистоты поверхности и протекания адсорбционных процессов. В настоящее время эллипсометрия все чаще используется для неразрушающего анализа структуры материалов. Потенциальные возможности метода чрезвычайно широки - анализ пористости, степени кристалличности, фазового состава, нерегулярности распределения частиц наполнителя в нанокомпозите, наличия инородных включений, неоднородностей нанометрического масштаба, состава и толщин межфазных границ.
В настоящее время Концерном "Наноиндустрия" закончена разработка фотометрического спектроэллипсометра широкого профиля "Эльф", в первом квартале 2009 г. планируется начало его промышленного производства. Этот прибор может использоваться на предприятиях, выпускающих изделия на основе тонкопленочных структур, для проведения научных исследований, а также в учебных целях. Технические характеристики прибора соответствуют мировым стандартам. Кроме того, этот прибор отличается рядом удачных конструкционных особенностей, позволяющих снизить влияние фоновых засветок, шумов, повысить точность измерений.
Фотометрический спектроэллипсометр "Эльф" предназначен для решения следующих задач:
- Измерение толщин пленок и толщин слоев в тонкопленочных структурах (металлы, полупроводники и диэлектрики; твердые и жидкие пленки);
- Измерение спектров оптических постоянных и диэлектрических свойств материалов в оптическом диапазоне (металлы, полупроводники и диэлектрики; твердые и жидкие среды);
- Исследование структуры материалов: состав, неравномерность, пористость, фазовый состав, степень кристалличности, наличие дефектов
- Анализ состояния поверхности и структуры тонких поверхностных слоев.
Прибор обеспечивает возможность построения пространственной карты любой из измеряемых характеристик. Наличие опорного фотоприемника позволяет проводить фотометрические измерения.
Спектроэллипсометр комплектуется:
- Блоком сопряжения с персональным компьютером, а также современным программным обеспечением;
- Микроприставкой, улучшающей пространственное разрешение;
- Измерительным столиком, способным перемещать образец в трех направлениях;
- Ахроматическим компенсатором, повышающим точность измерений тонких слоев толщиной менее 10 нанометров.