Обслуживание установки нанесения упрочняющих покрытий УВНИПА-1-001
Курсовой проект - Разное
Другие курсовые по предмету Разное
н регулирования выходного напряжения для заряда накопительных конденсаторов (КР) от 100 В (не более) до 500 В (не менее);
2)точность поддержания выходного напряжения на накопительных конденсаторах при частоте не более 10 Гц - 2%;
3)диапазон регулирования напряжений второй ступени блока поджига от 200 В (не менее) до 600 В (не более);
4)точность поддержания напряжения второй ступени блока поджига 5%;
5)максимальная частота следования импульсов поджига (353) Гц.
Источник питания электродугового испарителя имеет следующие параметры:
1)напряжение холостого хода (КР) не менее 60 В;
2)напряжение постоянного тока на любой ступени тока нагрузки не менее 2 В;
3)ступенчатая регулировка тока нагрузки с точностью +20% / -10% со значениями: 55, 75, 90, 110, 150, 180 А;
4)коэффициент пульсаций при токе нагрузки 90 А, не более 10%;
Устройство управления поджигом дуги обеспечивает подачу управляющих импульсов напряжения с частотой (30,25) Гц на устройство поджига дуги.
Задающее устройство обеспечивает работу испарителя в дискретном режиме со следующими длительностями горения и паузы:
Горение - 1, 2, 3, 4, 5 с.
Пауза -1,2,3,4,5 с.
Точность поддержания длительности горения и паузы 0,5 с.
Источники питания магнитных катушек электродугового сепарированного испарителя имеют следующие параметры:
) постоянный ток в нагрузке (КР) от 0,1 А (не более) до 3 А (не менее).
Источники высокого напряжения блока управления высоким и низким напряжением имеют следующие параметры:
1)ступенчатая регулировка напряжения с точностью 10% со значением (КР): 800, 1000, 1500, 2000. 2500 В;
2)ток короткого замыкания при напряжении 2500 В - (1,50,2) А.
Источники низкого напряжения блока управления высоким и низким напряжением имеют следующие параметры:
1)диапазон плавного регулирования напряжения (КР) от 40 В (не более) до 180 В (не менее);
2)максимальный ток при напряжении 180 В не более (1,50.2) А.
Установка сохраняет работоспособность при отклонениях напряжений питающей сети на 10% от номинального значения.
Контроль температуры деталей в процессе отработки технологии нанесения упрочняющих покрытий ведётся бесконтактным преобразователем излучения.
Максимальная электрическая мощность, потребляемая установкой, не более 30 кВт.
Установка обеспечивает работу в следующих режимах:
-ручной;
-автоматический.
Система управления обеспечивает следующие блокировки:
-закрытие запорной арматуры вакуумной системы в случае прекращения подачи электроэнергии;
-невозможность открытия натекателя при откачке камеры;
-невозможность открытия затвора при давлении в камере выше 13,3 Па (10" мм. рт. ст.);
-отключение и невозможность включения высокого и низкого напряжения на карусели, отключение и невозможность включения испарителей и источника ионного травления при закрытии затвора;
-отключение высокого напряжения от источника ионного травления и испарителей при уменьшении расходов охлаждающей воды через соответствующие магистрали ниже заданного уровня.
Устройство и работа установки
В основе работы установки лежит способ нанесения износостойких алмазоподобных покрытий на режущий инструмент, микроинструмент, а также на детали, работающие на трение и износ с помощью импульсного генератора углеродной плазмы, имеющего среднюю энергию ионов продядка 100 эВ, что исключает необходимость дополнительного ускорения ионов с помощью приложения отрицательного потенциала к подложке. Импульсный характер процесса конденсации, отличающийся длительными паузами (длительность паузы более чем в 10 раз превышает длительность плазменного разряда) позволяет улучшить отвод тепла из зоны конденсации, что обеспечивает формирование алмазоподобных структур в более широком диапазоне температур конденсации.
В установке для предварительной ионной очистки обрабатываемых деталей используется источник ионного травления типа "Радикал".
Окончательная очистка, нагрев деталей, закреплённых на планетарной карусели, и нанесение подслоя титана производится с помощью с электродутового испарителя с сепарацией плазменного потока в магнитном поле. Применение этого испарителя исключает возможность попадания на обрабатываемые детали капельной фазы распыляемого материала.
Для улучшения очистки на карусель подаётся отрицательный потенциал, что способствует внедрению ионов титана в поверхностный слой обрабатываемых деталей.
Установка состоит из четырёх основных частей: стойки питания генератора углеродной плазмы, блока питания испарителя, стойки питания и управления и блока вакуумного.
В блоке вакуумном установки расположены все основные технологические узлы и системы, а стойки питания обеспечивают питание и управление следующих устройств:
-импульсного генератора углеродной плазмы;
-электродугового испарителя с сепарацией плазменного потока;
-источника ионного травления типа "Радикал";
-приводов каруселей;
-привода заслонки;
-системы напуска газа;
-системы водоснабжен; - системы вакуумной.
. Возможные неисправности и методы их устранения
Наименование неисправностиВероятная причинаМетод устранения1. Не включается установкаСработал автомат защиты QP1 в стойке питания и управленияРучку автомата QPI отвести вниз до отказа и взвести вверх до щелчка2. Не включается механический насосСработал автомат защиты QF2 в стойке питания и управленияРучку автомата QF2 отвест?/p>