Высокочастотные плазмотроны
Курсовой проект - Физика
Другие курсовые по предмету Физика
ем их рабочих параметров.
Рассмотрены основные отрасли применения высокочастотных плазмотронов, описаны особенности технологических процессов и требования к техническим характеристиками плазмотронов для этих процессов. Проведено сравнение эффективности использования в технологических процессах дуговых и высокочастотных плазмотронов. Описаны основные наиболее распространённые процессы с использованием высокочастотных плазмотронов:
синтез TiO2;
сфероидизация гранулированных порошков;
сфероидизация порошков тугоплавких материалов;
получение SiO;
спектральный анализ.
Кроме того описаны способы интенсификации технологических процессов с использованием высокочастотной плазмы.
Список литературы:
1. Низкотемпературная плазма. ВЧ- и СВЧ-плазмотроны /под ред. Дресвина С.В., Русанова В.Д. - Новосибирск: Наука, 1992 г. - 320 с.
. Райзер Ю.П. Физика газового разряда: учеб. руководство - М.: Наука, 1987 г. - 592 с.
. Корохов О.А., Кузьмин Л.А. Мегаваттный ВЧ-плазмотрон с пористой разрядной камерой - Новосибирск: Наука, 1989 г. - 144 с.
. Дресвин С.В., Донской А.В., Ратников Д.Г. Высокочасттный индукционный разряд в камере с металлическими водоохлаждаемыми стенками - М.: Наука, 1965 г. - 152 с.
. Григорович Р., Кристеску Д. - К теории ВЧФ-разряда - М.: Наука, 1985 г. - 108 с.
. Васильев А.С. Ламповые генераторы для ВЧ-нагрева - Спб: Машиностроение, 1979 г. - 87 с.
. Цветков Ю.В., Панфилов С.А. Низкотемпературная плазма в восстановительных процессах - М.: Наука, 1980 г. - 360 с.