Книги по разным темам Pages:     | 1 | 2 |

Уменьшение дефектности образующегося окисного слоя при формировании SIMOX-структур с использованием макскирующего SiO2 может быть связано и с уменьшением проникающих в Si загрязнений, а также Журнал технической физики, 2002, том 72, вып. Pages:     | 1 | 2 |    Книги по разным темам